Tiziano FINOTTO

Qualifica
Tecnico Amministrativo
Telefono
041 234 6712 / 041 234 6785
E-mail
tiziano@unive.it
Sito web
https://www.unive.it/web/it/18697/persone/tiziano(scheda personale)
Struttura
DSMN - Coordinamento Tecnico
Sede: Campus scientifico via Torino
Struttura
Dipartimento di Scienze Molecolari e Nanosistemi
Sito web struttura: https://www.unive.it/dsmn
Sicurezza
Addetto/Addetta Squadre di Emergenza
Preposto di Laboratorio
Referente per le Emergenze di Sede

Didattica anno corrente

Didattica anni precedenti

Attività e competenze di ricerca

Principali aree e linee di ricerca del Dipartimento
Area: Chimica Fisica e Materiali Linea: Catalisi
Area: Chimica Fisica e Materiali Linea: Chimica Fisica dei materiali
Caratterizzazione catalizzatori metallici supportati
SSD:
CHIM/02
Altri membri del gruppo di ricerca:
Alvise BENEDETTI
Patrizia CANTON
Davide CRISTOFORI
Pietro RIELLO
Ossidi e complessi organici con proprietà fotoluminescenti
SSD:
CHIM/02
Altri membri del gruppo di ricerca:
Alvise BENEDETTI
Davide CRISTOFORI
Pietro RIELLO
Studio di materiali luminescenti nanostrutturati
SSD:
CHIM/02
Altri membri del gruppo di ricerca:
Alvise BENEDETTI
Davide CRISTOFORI
Alvise PEROSA
Pietro RIELLO
Studio di sistemi micellari
SSD:
CHIM/02
Altri membri del gruppo di ricerca:
Alvise BENEDETTI
Davide CRISTOFORI
Pietro RIELLO

Pubblicazioni in evidenza

Enrichi F.; Cattaruzza E.; Finotto T.; Riello P.; Righini G.C.; Trave E.; Vomiero A. Ag-Sensitized NIR-emitting Yb3+-doped glass-ceramics in APPLIED SCIENCES, vol. 10, pp. 2184 (ISSN 2076-3417)
DOI 2020, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/3725307


Cattaruzza, E; Battaglin, G.; Cristofori, D.; Finotto, T.; Riello, P.; Glisenti, A. On the synthesis and thermal stability of RuN, an uncommon nitride in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, vol. 295, pp. 93-98 (ISSN 0257-8972)
DOI - URL correlato 2016, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/3672612


Cattaruzza, E.; Battaglin, G.; Cristofori, D.; Finotto, T.; Riello, P.; Glisenti, A. On the synthesis and thermal stability of RuN, an uncommon nitride , Legnaro (PD), LNL - Laboratori Nazionali di Legnaro
2016, Rapporto di ricerca - Scheda ARCA: 10278/3689688


Chandrashekhar Malba; Umayal P. Sudhakaran; Silvia Borsacchi; Marco Geppi; Francesco Enrichi; Marta Maria Natile; Lidia Armelao;Tiziano Finotto; Riccardo Marin; Pietro Riello; Alvise Benedetti Structural and photophysical properties of rare-earth complexes encapsulated into surface modified mesoporous silica nanoparticles in DALTON TRANSACTIONS, vol. 43, pp. 16183-16196 (ISSN 1477-9226)
DOI 2014, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/43633


E. CATTARUZZA; G. BATTAGLIN; CANTON P.; T. FINOTTO; C. SADA Copper-based nanocluster composite silica films by rf-sputtering deposition in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING. C, BIOMIMETIC MATERIALS, SENSORS AND SYSTEMS, vol. 26, pp. 1092-1096 (ISSN 0928-4931)
DOI 2006, Articolo su rivista - Scheda ARCA: 10278/37832


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